CRF plasma 等離子清洗機

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  • 半導體晶圓片使用誠峰智造的plasma設備

           plasma設備表面處理在半導體生產工藝中幾乎每個環節都能使用到,半導體生產工藝中最復雜最頻繁的工序之一—晶圓片清洗,直接影響到整體的性能、成品率和可靠性,等離子表面處理作為一種...

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  • 半導體封裝的多個環節都能使用等離子清洗設備

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  • 半導體封裝行業使用等離子體清洗能有效提高粘附焊膏浸潤等性能

    半導體封裝行業使用等離子體清洗能有效提高粘附焊膏浸潤等性能? ?半導體器件生產中幾乎所有工序都有清洗這一步驟,其目的是為了徹底去除器件表面的微粒、有機物和無機物的沾污雜質,以保證產品質量。等離...

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誠峰智造——專注等離子研發20年

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